HOME > 製品情報 > 関連技術 > 真空ホットチルプレート
基板の温度の上昇，下降を精密にコントロールすることは、表面の物質の安定化に欠かせない技術です。これまでは加温工程と冷却工程が分かれていて、対象物質の安定化のコントロールが困難でした。このホットチルプレートは精密な加温、冷却のコントロールが可能です。勿論 大気下でも可能です。 この商品はＪＳＳ殿との提携で販売をしております。
- 基本スペック
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対応基板サイズ Max730×920mm
最大温度 250℃
温度分布 ±2℃
昇温レート 30℃/min
降温レート 20℃/min
※オプションにて、窒素循環・溶媒回収ユニット等の追加変更が可能です。
- 主な使用例
- 液晶パネル、有機EL、PDP等
多段化など仕様に合わせたカスタマイズが可能です。
